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ZL大型管道式紫外
CLEAR中壓紫外
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MOS板式臭氧發生器
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模塊化污水處理
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Resource Centre

鳳凰灣電子信息產業園位于江蘇省徐州經濟技術開發區,是徐州市重點打造的集成電路及ICT產業特色園區。園區總建筑面積約36萬平方米,重點發展半導體材料、集成電路設備、第三代半導體材料器件、集成電路封測及制造等產業。
半導體制造對超純水水質要求極為嚴苛,總有機碳(TOC)是超純水系統中最難控制的污染物之一。隨著集成電路臨界尺寸不斷縮小,對超純水中TOC值的要求越來越高。北京安力斯環境科技股份有限公司為鳳凰灣電子信息產業園提供了配套的超純水TOC降解系統,保障園區內半導體企業生產用水需求。

圖1:鳳凰灣電子信息產業園
安力斯為該項目提供了EX-UPW-TOC系列超純水TOC降解系統,該系統采用185nm雙波段紫外技術,通過高能量紫外光激發水分子產生羥基自由基(·OH),利用其強氧化性將水中的有機物分解為二氧化碳和水,實現TOC的高效降解。
該系統核心特點包括:高強度185nm紫外燈管:雙波段(185/254nm)輸出,185nm波段透光率達80%以上,確保高效的TOC降解效果。高精度UV強度傳感器:分辨率達0.01mW/cm2,實時監測紫外劑量,確保出水水質穩定。智能控制系統:支持本地/遠程控制,可連接SCADA系統,實現智能化運維管理。高品質材料:采用316L不銹鋼反應器,內外電解拋光處理,表面光潔度達Ra0.2以上,滿足超純水系統的潔凈要求。

圖2:TOC降解系統運行現場
設備處理能力覆蓋2~60m3/h,可使超純水TOC穩定降至1ppb以下,滿足美國ASTM超純水水質標準及電子工業部電子級水水質標準。
項目投運后,超純水系統出水TOC穩定控制在1ppb以下,完全滿足半導體制造工藝對超純水水質的嚴苛要求。系統運行穩定可靠,維護周期長,有效降低了園區企業的生產運營成本。

圖3:安力斯TOC降解設備